BUF

Build-Up Film
BUF Build-Up Film LG화학 첨단소재 고성능 반도체 패키지 기판의 다층 구조 형성을 위한 필름 적층 소재
BUF Build-Up Film LG화학 첨단소재 고성능 반도체 패키지 기판의 다층 구조 형성을 위한 필름 적층 소재

고성능 반도체 패키지 기판의 다층 구조 형성을 위한 필름 적층 소재

BUF(Build up Film)은 FC-BGA 등 고성능 반도체 기판의 다층 구조에서 층간 절연층을 형성하는 데 사용되는 필름 형태의 고절연 소재로, 균일하고 안정적인 절연층을 기반으로 고밀도 배선 형성, 신호 전송 품질 향상, 기판 안정성 확보 등 고성능 반도체 패키지 구현에 필수적인 역할을 합니다.

패키지 구조의 고집적 · 다층화​가 가속화되며, BUF의 성능이 더욱 중요해지고 있습니다. LG화학의 BUF는 우수한 절연 특성, 뛰어난 치수 안정성, 높은 신뢰성을 바탕으로 고객의 설계 유연성과 제품 신뢰성 향상에 기여하여 고성능 반도체 개발을 위한 핵심 소재 가치를 제공합니다.

특징

우수한 절연 특성

열적 · 기계적 안정성

미세가공 및 적층공정 안정성

뛰어난 내습성 및 내화학성

제품용도

제품 기능 및 구조

• 탄성(Modulus) 조절 및 두께 균일성 확보 기술로 반도체 패키지의 휨 현상(Warpage) 최소화
• 기계적 강성 확보 및 다기능(Multi-functional)의 경화제 사용으로 열팽창 억제
• 나노 크기의 필러 (Nano-filler) 설계로 미세 패턴 구현
• 고주파 고속용 반도체 패키지에서 신호 전달 시 에너지 손실 최소화(Low Df)

제품그룹

    제품 구조 및 용도

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      BUF
      Low CTE
      • 높은 유리전이온도(High Tg) 특성으로 내열성 및 신뢰성 우수
      • 저열팽창(Low CTE) 특성으로 패키지 신뢰성 우수
      • FC-BGA (PC용 CPU/GPU, 전장용 MCU/ADAS, DTV용 컨트롤러)
      BUF
      Fine Pattern
      • 나노 필러(Nano-filler) 도입으로 미세회로 구현 (L/S : 4/4㎛ 이하)
      • 우수한 내습성 기반의 고온·고습 환경에서의 신뢰성 우수
      • FC-BGA(서버용 CPU/GPU)
      • 유리기판용 절연소재
      BUF
      Low Dielectric Loss
      • 저유전 손실률(Low Df) 특성을 바탕으로 고속 신호 전송 및 저손실 요구에 최적화된 성능 구현
      • Elongation 및 Modulus 특성 확보로 Crack 발생 억제
      • FC-BGA (서버용 CPU/GPU, 네트워크 IC)
      • 유리기판용 절연소재

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