PID

Photo Imageable Dielectric
PID Photo Imageable Dielectric  LG화학 첨단소재 첨단 반도체 패키지의 미세 회로 패턴을 구현하는 감광성 고성능 절연 소재
PID Photo Imageable Dielectric  LG화학 첨단소재 첨단 반도체 패키지의 미세 회로 패턴을 구현하는 감광성 고성능 절연 소재

첨단 반도체 패키지의 미세 회로 패턴을 구현하는 감광성 고성능 절연 소재

PID(Photo Imageable Dielectric)는 첨단 반도체 패키지에서 반도체 칩과 기판을 연결하는 미세 회로를 형성하기 위해 사용되는 감광성 절연재입니다. 미세 회로의 정밀도를 높이고 안정적인 전기적 연결을 위한 절연 특성을 확보하여 패키지의 성능과 신뢰성을 향상시키는 핵심 역할을 합니다.

AI 기술 고도화로 첨단 반도체 성능 향상에 대한 수요가 급증하는 가운데, LG화학은 초미세 회로 구현에 필요한 고해상도 패터닝 특성과 우수한 신뢰성을 갖춘 PID를 제공하고, 액상 및 필름 기반의 폭넓은 제품 라인업을 통해 고객의 공정 조건과 기술적 과제에 최적화된 소재 솔루션을 제시합니다.

특징

우수한 신뢰성

고해상도

저온 경화

친환경(PFAS Free)​

제품용도

• 독자적인 소재 설계로 고해상도 특성 및 고신뢰성 동시 구현
• 안정적인 저온 경화 특성 및 낮은 수축 · 흡수율 특성으로 공정 안정성 및 신뢰성 향상
• 과불화 화합물(PFAS), 유기 용매(NMP, Toluene) 등이 첨가되지 않은 친환경 제품
• 필름형 PID 제품으로 대면적 패널 / 기판 미세회로 구현

제품그룹

    제품 구조 및 용도

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      PID
      Positive Type - Liquid
      • 우수한 열적 · 기계적 · 전기적​ 특성 구현
      • FO-WLP / PLP (PMIC, 모바일 AP)
      • 2.xD (AI가속기)
      • 유리기판용 절연소재
      PID
      Positive Type - Liquid(High Resolution)
      • 고성능 반도체의 집적도와 성능 향상을 위한 고해상도 특성 구현
      • 저수축률 특징을 활용한 다층회로, 고집적 패키지 제작에 유리
      • FO-WLP / PLP (PMIC, 모바일 AP)
      • 2.xD (AI가속기)
      • 유리기판용 절연소재
      PID
      Negative Type – Liquid
      • 고신뢰성, 고해상도 및 우수한 기재 밀착력 확보
      • 고속 신호 전송에 발생하는 배선간 누설, 누전 현상 제어에 유리한 저유전율(Low Dk) 및 저유전 손실율(Low Df) 특성 구현
      • FO-WLP / PLP (PMIC, 모바일 AP)
      • 2.xD (AI가속기)
      • 유리기판용 절연소재
      PID
      Negative Type - Film
      • 필름 Lamination 공정 적용 가능
      • 대면적 패널 적용 가능
      • FO-WLP / PLP (PMIC, 모바일 AP)
      • 2.xD (AI가속기)
      • 유리기판용 절연소재

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